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钛靶材

材质: TA1、TA2、TA9、TA10、TC4
表面:
状态:
标准: GB/T16598
工艺:
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钛靶材由钛金属制成钛元素符号 Ti ,原子序数 22 ,密度 4.454g/Cm3 ,物理性质:熔点 1668℃,沸点 3262℃,比热容 0.52(J /(Kg·K) ,蒸发热 421(KJ/Mol),熔化热 15.45(KJ/Mol),导电率 0.0234(106/Cm) 。由于高纯钛的成本相当昂贵,应用领域极其有限,主要用作半导体材料和超高真空装置中的吸气材料。钛靶材供应商加工的高纯度钛靶材具有吸气性,特别是吸氢、CH4、Co2气体,因此高纯度钛靶材能在高真空和超高真空系统中获得广泛应用。用高纯度钛靶材溅射制作LSI、VLSI、ULSI的线路网时,可使这些集成件变得格外轻、薄、尺寸小而且线路密集。高纯钛靶材也可以用作阻挡层金属材料。

宝鸡钛靶材厂家对于钛靶材加工方法:

1、钛靶材加工方法是采用电子束轰击炉进行电子束冷床熔炼提纯后制成钛锭,通过塑形变形及机械加工方法将钛锭制成所需规格尺寸的钛靶材,采用上述方法制成的钛靶材纯度高,所溅射制成的膜层厚度均匀,且比常规低纯钛靶镀膜具有耐磨性强,附着力好的特点。

钛靶材的其他合金形式

钛铝靶材、钛铬靶材、钛镍合金靶材等。


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